살균시스템

1 오존발생장치 (OZONE GENERATING SYSTEM)

오존(O3)처리법은 염소보다 훨씬 강한 오존의 산화력을 이용하여 살균(소독), 맛, 냄새 유발물질 및 색도의 제거, 유기화합물의 농도 저하, 철. 망간 등 특정 금속이온의 산화 목적 등에 이용된다.
오존은 유기물과 반응하여 부산물을 생성하므로 일반적으로 오존처리의 후속처리로 활성탄 여과처리가 병행된다.
또한 오존처리에 수반되는 문제점으로서 중요한 것은 용존 잔류오존과 배출오존의 처리가 있다. 처리공정 내에서의 과다한 용존 잔류오존은 강력한 산화력에 의하여 후속처리인 활성탄의 빠른 소모를 초래하며 배출오존이 대기중에 방출될 경우 노동안전위생 또는 환경상의 문제를 일으킬 우려가 있으므로 이를 완전히 파괴하여야 한다. 오존은 원수(전처리), 침전수(중간처리), 여과수(후처리)에 주입할 수 있으며 원수에 주입하는 전오존 처리는 긴 접촉시간을 필요로 함으로 특별히 색도가 높은 경우에 적합하나 탁도에 의한 오존소비량이 많아진다. 그러므로 정수설비의 조건에 맞추어 주입점을 정하고 가능한한 충분한 접촉시간이 확보되도록 접촉조의 신중한 설계가 필요하며 또한 배출오존이 대기중으로 방출되지 않도록 밀폐식으로 제작되어야 한다.

2 자외선 살균장치

특 징
자외선을 이용하여 살균시키는 방법으로 약품을 사용하지 않으므로 인체에 아무런 피해가 없으며, 자외선 은 조사량과 파장에 따라살균효과가 달라지는데 파장이200-300NM (Nanometer) 사이의 비교적 짧은 파장이 자외선이며 이 광선의 조사에  의해 세균내의 핵산이 화학변화를 일으켜 신진대사에 장애를 주어 파괴시킨다.
 

용 도
호텔,  학교,  병원,  식품제조 공장,  음식점, 양어장, 음료제조 공장

염소살균과의 차이점

투입된 염소는 살균 지속성을 가지고 있어 살균 후에도 지속적으로 세균번식을 억제해야 하는 곳 에 적용될 수 있습니다. 또 비용이 저렴하고 관리가 단순한 장점이 있습니다. 그러나 염소는 부산물 을 만듭니다. 과다 투입된 염소는 물속에서 트리할로메탄 (THM : Tri-Halo Methane) 등의 발암 물질을 만들고 수영장에서는 클로르아민 등 불쾌한 냄새의 부산물을 만들기도 합니다. 하수의 소독 살균분야에서는 염소의 살균지속성이 역으로 하천의 유익한 미생물까지 몰살시키는 단점이 있습니 다.
자외선은 이러한 부산물을 만들지 않으며 밀폐된 하우징안에서 살균 산화 반응이 일어남으로 안전하고 안정적입니다. 지속성이 필요한 경우는 자외선을 통과한 물에 미량의 염소를 첨가하기도 하 는데 살균목적의 투여가 아니라 번식을 억제할 목적이기 때문에 그 양이 획기적으로 줄어듭니다

오존과의 차이점

오존은 산소원자 3개가 결합된 분자구조를 가지고 있습니다. 안정적인 산소와 달리 굉장히 불안정한 구조입니다. 산소원자 하나가 이탈하여 산소분자와 OH라디칼로 분해되며 이 OH라디칼은 강력한 산화력을 가지게 되어 무엇인가를 붙잡아 산화시키게 됩니다. 오존 역시 자외선과 마찬가지로 지속성이 없으나 자외선 투과가 어려운 탁한 오수를 처리할 때 유용합니다. 오존이 폭기된 물에 자외선을 조사하면 강제로 분자구조가 분해되어 강력한 산화력을 가지는 고급산화효과를 거둘 수 있습니다. 이렇게 구성한 시스템을 AOP(Advanced Oxidation Process) 시스템이라 합니다. 한편 자외선으로 오존을 만들 수도 있습니다. 오존은 254nm의 파장을 맞으면 분해되지만 185nm의 자외선 파장에서는 생성됩니다. 이러한 성질을 이용하여 오존을 생성하는 오존램프도 생산되고 있습니다.